发明授权
- 专利标题： Holding plate for deposition and heat treatment and method of producing the same
- 专利标题（中）： 用于沉积和热处理的保持板及其制造方法
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申请号： EP14161925.4申请日： 2014-03-27
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公开(公告)号： EP2784422B1公开(公告)日： 2017-10-04
- 发明人: Nakada, Yoshinobu
- 申请人： MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- 申请人地址： 3-2, Ohtemachi 1-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 专利权人： MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- 当前专利权人： MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- 当前专利权人地址： 3-2, Ohtemachi 1-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 代理机构： Gille Hrabal
- 优先权： JP2013067952 20130328
- 主分类号： F27D5/00
- IPC分类号： F27D5/00 ; C03B25/08 ; G02F1/13
公开/授权文献
- EP2784422A3 Silicon member and method of producing the same 公开/授权日：2014-10-29
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