发明公开
EP2823359A4 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE COMPOSITION
审中-公开
对主动辐射敏感或BZW。 辐射敏感的树脂组合物和抗主动辐射敏感和/或。 辐射敏感薄膜和用该组合物结构化成形的方法
- 专利标题： ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE COMPOSITION
- 专利标题（中）： 对主动辐射敏感或BZW。 辐射敏感的树脂组合物和抗主动辐射敏感和/或。 辐射敏感薄膜和用该组合物结构化成形的方法
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申请号： EP13758306申请日： 2013-03-01
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公开(公告)号： EP2823359A4公开(公告)日： 2015-10-21
- 发明人: INASAKI TAKESHI , KAWABATA TAKESHI , TSUCHIMURA TOMOTAKA , TSUCHIHASHI TORU
- 申请人： FUJIFILM CORP
- 专利权人： FUJIFILM CORP
- 当前专利权人： FUJIFILM CORP
- 优先权： JP2012048562 2012-03-05
- 主分类号： C08F212/14
- IPC分类号： C08F212/14 ; G03F7/039 ; H01L21/027
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