发明授权
- 专利标题： DEPOSITION APPARATUS AND USE METHODS
- 专利标题（中）： 沉积装置和使用方法
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申请号： EP15171956.4申请日： 2015-06-12
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公开(公告)号： EP2955247B1公开(公告)日： 2017-12-20
- 发明人: Neal, James W. , Litton, David A. , Hazel, Brian T. , Maloney, Michael J. , Jorzik, Eric M.
- 申请人： United Technologies Corporation
- 申请人地址： 10 Farm Springs Road Farmington, CT 06032 US
- 专利权人： United Technologies Corporation
- 当前专利权人： United Technologies Corporation
- 当前专利权人地址： 10 Farm Springs Road Farmington, CT 06032 US
- 代理机构： Leckey, David Herbert
- 优先权： US201462011103P 20140612
- 主分类号： C23C14/50
- IPC分类号： C23C14/50 ; C23C14/56
摘要：
A deposition apparatus comprises: an infeed chamber (28; 28-1); a preheat chamber (30; 30-1); a deposition chamber (26; 26-1); and optionally at least one of a cooldown chamber (34) and an outlet chamber (38). At least a first of the preheat chamber and the cooldown chamber contains a buffer system (60; 60-1; 60-2) for buffering workpieces respectively passing to or from the deposition chamber.
公开/授权文献
- EP2955247A1 DEPOSITION APPARATUS AND USE METHODS 公开/授权日：2015-12-16
信息查询
IPC分类:
