- 专利标题： POLISHING PAD AND POLISHING METHOD
-
申请号： EP14762618.8申请日： 2014-02-27
-
公开(公告)号： EP2974829B1公开(公告)日： 2019-06-19
- 发明人: DOI, Toshiro , SESHIMO, Kiyoshi , TAKAGI, Masataka , KASHIWADA, Hiroshi
- 申请人： Kyushu University, National University Corporation , Fujibo Holdings, Inc.
- 申请人地址： 10-1, Hakozaki 6-chome Higashi-ku Fukuoka-shi, Fukuoka 812-8581 JP
- 专利权人： Kyushu University, National University Corporation,Fujibo Holdings, Inc.
- 当前专利权人： Kyushu University, National University Corporation,Fujibo Holdings, Inc.
- 当前专利权人地址： 10-1, Hakozaki 6-chome Higashi-ku Fukuoka-shi, Fukuoka 812-8581 JP
- 代理机构： V.O.
- 优先权： JP2013049471 20130312
- 国际公布： WO2014141889 20140918
- 主分类号： B24B37/24
- IPC分类号： B24B37/24 ; H01L21/304 ; B24D11/00 ; B24B37/22 ; B24D13/00
公开/授权文献
- EP2974829A1 POLISHING PAD AND POLISHING METHOD 公开/授权日：2016-01-20
信息查询
