发明公开
EP3298446A2 MESSVERFAHREN UND MESSANORDNUNG FÜR EIN ABBILDENDES OPTISCHES SYSTEM
审中-公开
一种照明光学系统的测量方法和测量装置
- 专利标题： MESSVERFAHREN UND MESSANORDNUNG FÜR EIN ABBILDENDES OPTISCHES SYSTEM
- 专利标题（英）： EP3298446A2 - Measuring method and measuring arrangement for an imaging optical system
- 专利标题（中）： 一种照明光学系统的测量方法和测量装置
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申请号： EP16727302.8申请日： 2016-05-19
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公开(公告)号： EP3298446A2公开(公告)日： 2018-03-28
- 发明人: WEGMANN, Ulrich , STIEPAN, Hans-Michael , HETZLER, Jochen
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Zeuner Summerer Stütz
- 优先权： DE102015209173 20150520; DE102015220588 20151022; DE102016203562 20160304
- 国际公布： WO2016184571 20161124
- 主分类号： G02B7/00
- IPC分类号： G02B7/00 ; G01M11/02 ; G03F7/20
摘要：
The invention relates to a method for measuring a wavefront error of an imaging optical system (10) of a projection lithography system for microlithography. The method consists of measuring separately respective wavefront errors of different sub-arrangements (M1; M2; M3; M1, M3) of the optical elements.
信息查询
IPC分类:
| G | 物理 |
| G02 | 光学 |
| G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| G02B7/00 | 光学元件的安装、调整装置或不漏光连接 |
