VERFAHREN ZUR FERTIGUNG EINER ZUMINDEST ZWEITEILIGEN STRUKTUR, INSBESONDERE EINES HALBZEUGS FÜR EINEN SUPRALEITERDRAHT
摘要:
Ein Verfahren zur Fertigung einer zumindest zweiteiligen Struktur (43), insbesondere eines Halbzeugs für einen Supraleiterdraht,
wobei eine erste Struktur (2a) und eine zweite Struktur (2b) separat gefertigt werden, und anschließend die erste Struktur (2a) und die zweite Struktur (2b) ineinander gefügt werden,
ist dadurch gekennzeichnet, dass die erste Struktur (2a) und die zweite Struktur (2b) jeweils schichtweise durch selektives Laserschmelzen oder selektives Elektronenstrahlschmelzen eines Pulvers (6) gefertigt werden.
Die Erfindung vereinfacht die Fertigung von zweiteiligen Strukturen, insbesondere für Halbzeuge von Supraleiterdrähten.
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