发明专利
- 专利标题： 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
- 专利标题（英）： Photosensitive resin composition, photosensitive element, mask material for sand blasting, and surface processing method of process object
- 专利标题（中）： 感光树脂组合物，感光元件，砂光掩模材料和工艺对象的表面处理方法
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申请号： JP2014253787申请日： 2014-12-16
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公开(公告)号： JP2015143834A公开(公告)日： 2015-08-06
- 发明人: 小澤 恭子 , 吉田 哲也 , 板垣 秀一
- 申请人： 日立化成株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 代理商 長谷川 芳樹; 清水 義憲; 古下 智也; 酒巻 順一郎
- 优先权： JP2013266899 2013-12-25
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/075 ; G03F7/40 ; C08F2/46 ; C08F299/06 ; G03F7/027
摘要：
【課題】 剥離層を設けなくても支持体を感光層から容易に剥離することが可能であり、ガラス基板等の基材上で密着性及び解像性に優れるレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物と、それを用いた感光性エレメント、被処理体の表面加工方法、サンドブラスト用マスク材を提供すること。 【解決手段】 (A)カルボキシル基を有するバインダーポリマーと、(B)エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)リンを含有する可塑剤と、(E)シラン化合物とを含有し、前記(B)エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物が、ウレタン(メタ)アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物。 【選択図】なし
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