Invention Patent
- Patent Title: ターゲット供給装置、その制御システム、その制御装置およびその制御回路
- Patent Title (English): Target supply device, control system of the same, control device of the same, and control circuit of the same
- Patent Title (中): 目标提供装置，其控制系统，其控制装置及其控制电路
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Application No.: JP2015088743Application Date: 2015-04-23
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Publication No.: JP2015144140APublication Date: 2015-08-06
- Inventor: 石原 孝信 , 板藤 寛
- Applicant: ギガフォトン株式会社 , CKD株式会社
- Applicant Address: 栃木県小山市大字横倉新田400番地
- Assignee: ギガフォトン株式会社,CKD株式会社
- Current Assignee: ギガフォトン株式会社,CKD株式会社
- Current Assignee Address: 栃木県小山市大字横倉新田400番地
- Agent 酒井 宏明
- Priority: JP2008328274 2008-12-24
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; H05G2/00
Abstract:
【課題】ターゲットの無駄な消費を抑えることができるターゲット供給装置を提供する。 【解決手段】ノズル31から出力される液状の溶融ターゲット材である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、一端が前記タンク30に接続され、他端が排気口Laを形成するガス流路L2と、ガス流路L2上に設置したバルブ43と、溶融錫34をノズル30から出力させない場合、バルブ43を開にしてタンク30内を減圧するコントローラ60と、を備え、EUV光を出力させない場合、ターゲット13の供給を停止または供給速度を減速することで、溶融錫34の消費を抑える。 【選択図】図2
Public/Granted literature
- JP6092927B2 極端紫外光光源装置 Public/Granted day:2017-03-08
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IPC分类:
