[R1はハロゲン原子を有してもよいC1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;R2はC5〜18の脂環式炭化水素基を有する基;Rf1及びRf2は夫々独立にC1〜4のペルフルオロアルキル基;A1は単結合、C1〜6のアルカンジイル基又は*−A2−X1−(A3−X2)a−(A4)b−;*は酸素原子との結合手;A2〜A4は夫々独立にC1〜6のアルカンジイル基;X1及びX2は夫々独立に−O−、−CO−O−又は−O−CO−;a及びbは0又は1]
【選択図】なし ">

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发明专利
JP2016104856A 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 审中-公开
化合物，树脂，耐腐蚀组合物，以及生产耐火图案的方法

  • 专利标题： 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  • 专利标题（英）： Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
  • 专利标题（中）： 化合物，树脂，耐腐蚀组合物，以及生产耐火图案的方法
  • 申请号： JP2015217358
    申请日： 2015-11-05
  • 公开(公告)号： JP2016104856A
    公开(公告)日： 2016-06-09
  • 发明人: 増山 達郎 , 鈴木 雄喜 , 市川 幸司
  • 申请人： 住友化学株式会社
  • 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
  • 专利权人： 住友化学株式会社
  • 当前专利权人： 住友化学株式会社
  • 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
  • 代理商 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
  • 优先权： JP2014231760 2014-11-14
  • 主分类号： C07C69/675
  • IPC分类号： C07C69/675 ;  G03F7/039 ;  G03F7/038 ;  C08F20/28
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
摘要：
【課題】欠陥が少なくラインエッジラフネスが良好なレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来の構造単位を含む樹脂及び前記樹脂を含むレジスト組成物。 [R 1 はハロゲン原子を有してもよいC1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;R 2 はC5〜18の脂環式炭化水素基を有する基;Rf 1 及びRf 2 は夫々独立にC1〜4のペルフルオロアルキル基;A 1 は単結合、C1〜6のアルカンジイル基又は * −A 2 −X 1 −(A 3 −X 2 ) a −(A 4 ) b −;*は酸素原子との結合手;A 2 〜A 4 は夫々独立にC1〜6のアルカンジイル基;X 1 及びX 2 は夫々独立に−O−、−CO−O−又は−O−CO−;a及びbは0又は1] 【選択図】なし
摘要（中）：

要解决的问题：提供能够产生缺陷少，线边缘粗糙度好的抗蚀剂图案的化合物，树脂和抗蚀剂组合物。溶液：化合物由式（I）表示，树脂含有结构单元 衍生自化合物，抗蚀剂组合物含有树脂。 [R是氢原子，卤素原子或可具有卤素原子的1-6C烷基; R是具有5-18C脂环族烃基的基团; Rf和Rf各自独立地为1-4C全氟烷基; 一个单键，一个1-6C的链烷二基或-A-X-（A-X） - （A） - ; *是与氧原子的键; Ato各自独立地为1-6C烷二基; Xand Xare各自独立地为-O - ， - CO-O-或-O-CO-; a和b各自为0或1.]选择图：无

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