Invention Patent
- Patent Title: ガス供給制御方法
- Patent Title (English): Gas supply control method
- Patent Title (中): 燃气供应控制方法
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Application No.: JP2015249894Application Date: 2015-12-22
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Publication No.: JP2016201530APublication Date: 2016-12-01
- Inventor: 大野 久美子 , 辻本 宏 , 澤地 淳 , 網倉 紀彦 , 佐々木 則和 , 川口 由考
- Applicant: 東京エレクトロン株式会社
- Applicant Address: 東京都港区赤坂五丁目3番1号
- Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区赤坂五丁目3番1号
- Agent 伊東 忠重; 伊東 忠彦
- Priority: JP2015079131 2015-04-08
- Main IPC: G05D7/06
- IPC: G05D7/06 ; H01L21/3065

Abstract:
【課題】チャンバ内に速やかに所望の流量のガスを供給する。 【解決手段】圧力制御式流量計と、圧力制御式流量計の上流側の第1バルブと、下流側の第2バルブとを用いたガス供給制御方法であって、圧力制御式流量計は、第1及び第2バルブとに接続されるコントロールバルブと、コントロールバルブと第2バルブとの間に設けられるオリフィスとを有し、オリフィス及びコントロールバルブ間のガス供給管の容積V 1 とオリフィス及び第2バルブ間のガス供給管の容積V 2 とはV 1 /V 2 ≧9であり、オリフィス及びコントロールバルブ間のガス供給管の圧力P 1 とオリフィス及び第2バルブ間のガス供給管の圧力P 2 とは、ガスを供給する間P 1 >2×P 2 に維持され、第1のバルブを開き、コントロールバルブを制御した状態で第2バルブの開閉制御によりガスの供給を制御する、ガス供給制御方法が提供される。 【選択図】図4
Public/Granted literature
- JP6516666B2 ガス供給制御方法 Public/Granted day:2019-05-22
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