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发明专利
JP2017031501A 遠隔アーク放電プラズマ支援プロセス 审中-公开
远程电弧放电等离子体辅助工艺

遠隔アーク放電プラズマ支援プロセス
摘要：
【課題】改善された膜特性を生成するために被覆プロセスにおいて高エネルギー粒子を生成する技法を提供する。 【解決手段】被覆システムは真空チャンバーと被覆組立体を含む。被覆組立体は、蒸発源、被覆される基板が蒸発源の前に置かれるように基板を保持する基板ホルダー、主陰極真空アーク組立体、陰極ターゲットに電気的に結合された遠隔陽極、陰極ターゲットと主陽極との間に接続された一次電源、及び陰極ターゲットと遠隔陽極との間に接続された二次電源を含む。主陰極真空アーク組立体は、陰極チャンバー組立体、陰極ターゲット、任意選択の主陽極、及び陰極ターゲットを真空チャンバーから絶縁するシールドを含む。シールドは、電子放出電流又は金属蒸気プラズマのいずれかを陰極ターゲットから真空チャンバー内へ送出する開口部を画成する。蒸発源は、陰極チャンバー組立体と遠隔陽極との間に置かれる。 【選択図】図1A
摘要（中）：

用于在涂布过程产生的高能粒子，以产生改善的膜性能的技术。 的涂层体系，包括真空腔室和所述盖组件。 涂料组件中，所述蒸发源，用于保持基板上，使得要涂覆的基底放置在蒸发源，所述主阴极真空电弧组件，远程阳极电耦合到所述阴极靶，阴极靶的前面的基板支架 在阳极和阴极靶和远程阳极之间的连接二次电源之间的主连接含主电源。 主阴极真空电弧组件包括阴极室组件，阴极靶，主阳极可选的，并且用于从所述真空室绝缘阴极靶的屏蔽。 屏蔽限定用于从阴极靶递送无论是电子发射电流或金属蒸气等离子体到真空腔室中的开口。 蒸发源被放置在阴极室组件和远程阳极之间。 点域1A

摘要（英）：

To provide a technique for generating a high-energy particles in the coating process to produce an improved film properties.
A coating system includes a vacuum chamber and the coating assembly. Coating assembly, the evaporation source, a substrate holder for holding a substrate so that the substrate to be coated is placed in front of the evaporation source, the main cathode vacuum arc assembly, remote anode electrically coupled to the cathode target, the cathode targets a main containing connected primary power source between the anode and the connected secondary power source between the cathode target and the remote anode. The main cathode vacuum arc assembly includes a cathode chamber assembly, cathode target, main anode of any selection, and the shield to insulate the cathode target from the vacuum chamber. The shield defines an opening for delivering one of the electron emission current or a metal vapor plasma from the cathode target into the vacuum chamber. Evaporation source is placed between the cathode chamber assembly and the remote anode.
.FIELD 1A

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