Invention Patent
- Patent Title: 配線基板及びその製造方法
- Patent Title (English): JP2018037527A - Wiring board and manufacturing method of the same
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Application No.: JP2016169587Application Date: 2016-08-31
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Publication No.: JP2018037527APublication Date: 2018-03-08
- Inventor: 鈴木 敏夫 , 金山 雅巳 , 服部 晃佳 , 鬼頭 正典
- Applicant: 日本特殊陶業株式会社
- Applicant Address: 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号
- Assignee: 日本特殊陶業株式会社
- Current Assignee: 日本特殊陶業株式会社
- Current Assignee Address: 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号
- Agent 名古屋国際特許業務法人
- Main IPC: H05K1/09
- IPC: H05K1/09 ; H05K3/24
Abstract:
【課題】導体部に好適に実装が可能な配線基板及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】メタライズ層7の表面を覆うように、メッキによって初期Cuメッキ層19を形成した後に、その初期Cuメッキ層19を加熱して軟化又は溶融させるので、その軟化又は溶融した初期Cuメッキ層19の銅がメタライズ層7の開気孔部9に入り込む。また、この加熱の際には、メタライズ層7の成分と初期Cuメッキ層19との成分が相互熱拡散する。従って、その後固化した場合(即ち初期Cuメッキ層19が下部Cuメッキ層13となった場合)には、アンカー効果や相互熱拡散の効果等によって、メタライズ層7と下部Cuメッキ層13との密着性が向上し、実装性が向上する。 【選択図】図1
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