发明专利
JP2018110051A 光照射装置
审中-公开
- 专利标题: 光照射装置
- 专利标题(英): JP2018110051A - Light irradiation device
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申请号: JP2016256289申请日: 2016-12-28
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公开(公告)号: JP2018110051A公开(公告)日: 2018-07-12
- 发明人: 八木 一乃大 , 戸川 拓三
- 申请人: シーシーエス株式会社
- 申请人地址: 京都府京都市上京区烏丸通下立売上ル桜鶴円町374番地
- 专利权人: シーシーエス株式会社
- 当前专利权人: シーシーエス株式会社
- 当前专利权人地址: 京都府京都市上京区烏丸通下立売上ル桜鶴円町374番地
- 代理商 西村 竜平; 齊藤 真大; 上村 喜永
- 主分类号: F21V29/503
- IPC分类号: F21V29/503 ; F21V29/76 ; F21V29/67 ; F21Y115/10 ; F21V23/00
摘要:
【課題】無駄な配線スペースを省いてコンパクト化を図りながら、重量や製造コストを増加させずに各放熱フィンの間の隙間を流れる気体の流れを制御して光源の冷却効率を高めること。 【解決手段】光照射装置100は、電線取付領域と光源取付領域とが異なる表面位置に設定された基板20,30、及びこの基板20,30の裏面に立設される複数の放熱フィン41を有する放熱体40と、光源取付領域に設けられた光源10と、電線取付領域に一端が設けられ、光源10と電気的に接続される電線60とを備え、複数の放熱フィン41は、互いに間隔を空けて、その隙間に気体が流動するように形成されており、電線の一端側は、基板の表面側から放熱フィン側に配線され、かつ、放熱体の外形形状の範囲内で該放熱フィンの付け根側から先端側まで該放熱フィンに沿って這わされている。 【選択図】図2
公开/授权文献
- JP6788499B2 光照射装置 公开/授权日:2020-11-25
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IPC分类: