• 专利标题: 気泡供給装置、気泡供給方法、化合物製造装置および化合物製造方法
  • 专利标题(英): JP2018130648A - Bubble supply device, bubble supply method, compound manufacturing device and compound manufacturing method
  • 申请号: JP2017024385
    申请日: 2017-02-13
  • 公开(公告)号: JP2018130648A
    公开(公告)日: 2018-08-23
  • 发明人: 細川 宏
  • 申请人: 三菱ケミカル株式会社
  • 申请人地址: 東京都千代田区丸の内1−1−1
  • 专利权人: 三菱ケミカル株式会社
  • 当前专利权人: 三菱ケミカル株式会社
  • 当前专利权人地址: 東京都千代田区丸の内1−1−1
  • 代理商 志賀 正武; 高橋 詔男; 鈴木 三義
  • 主分类号: C07C27/12
  • IPC分类号: C07C27/12 C07C35/08 C07C49/403 B01J19/00 B01F3/04
気泡供給装置、気泡供給方法、化合物製造装置および化合物製造方法
摘要:
【課題】少量の液にも微細な気泡を供給できる気泡供給装置および気泡供給方法、ならびに基質と気体との反応を速い反応速度で、かつ効率よく進行させることができるとともに、小規模な連続処理にも適用できる化合物製造装置および化合物製造方法の提供。 【解決手段】基質を含む液に基質と反応し得る気体を含む気泡を供給する中空糸膜(中空糸膜モジュール12)を備えた気泡供給装置10;基質を含む液に基質と反応し得る気体を含む気泡を中空糸膜から供給する気泡供給方法;気泡供給装置10と、基質と気体との反応を行う反応装置(マイクロリアクタ34)とを備えた化合物製造装置30;本発明の気泡供給方法によって基質を含む液に基質と反応し得る気体を含む気泡を供給し、基質と気体とを反応させて目的の化合物を得る化合物製造方法。 【選択図】図4
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