- 专利标题： 高耐熱性ポリシルセスキオキサン系感光性樹脂組成物{HIGHLY HEAT RESISTANT POLYSILSESQUIOXANE−BASED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}
- 专利标题（英）： JP2018184611A - High heat resistance polysilsesquioxane-based photosensitive resin composition {highly heat resistant polysilsesquioxane-based photosensitive resin composition}
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申请号： JP2018129866申请日： 2018-07-09
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公开(公告)号： JP2018184611A公开(公告)日： 2018-11-22
- 发明人: キム、チュン ヨン , キム、ファ ヨン , チョ、サン フン , リュ、カン ヒョン , チェ、ホ ソン
- 申请人： エルティーシー カンパニー リミテッド
- 申请人地址： 大韓民国 キョンギ−ド 14067、アニャン−シ、トンアン−グ、55 ピョンチョン−デロ 212ボン−ギル、テゴ−ビルディング 6フロア
- 专利权人： エルティーシー カンパニー リミテッド
- 当前专利权人： エルティーシー カンパニー リミテッド
- 当前专利权人地址： 大韓民国 キョンギ−ド 14067、アニャン−シ、トンアン−グ、55 ピョンチョン−デロ 212ボン−ギル、テゴ−ビルディング 6フロア
- 代理商 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
- 优先权： KR10-2014-0113197 2014-08-28
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023 ; G03F7/075 ; C08G77/04 ; C08G77/50
摘要：
【課題】耐熱性、薄いアルカリ水溶液に対する現像性に優れ、高感度、高解像度パターンの形成が容易であり、基板への密着性、平坦性、残膜率及び透過度に優れた新規なポリシルセスキオキサン系レジスト組成物の提供。 【解決手段】下記式1、2、3からなる群より選ばれる2種以上を混合して共重合したポリシルセスキオキサン系共重合体。式1:R 1 −R 2 −Si(R 3 ) 3 、式2:R 4 −R 5 −Si(R 6 ) 3 、式3:(R 7 ) 3 Si−R 8 −Si(R 7 ) 3 (R 1 ;アルカリ溶液で塩形成可能な置換基又は親水性基、R 2 、R 5 、R 8 ;アルキレン、芳香族、又は脂環族、R 3 、R 6 、R 7 ;アルコキシ、R 4 ;H、アルキル、フェニル、ビフェニル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、グリシジルオキシ、シクロヘキシルエポキシ、オキセタン、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、トリフルオロメチル、ビニル、アルコキシ、及びイソシアン。) 【選択図】図1
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