发明专利
- 专利标题： 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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申请号： JP2019091608申请日： 2019-05-14
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公开(公告)号： JP2019206692A公开(公告)日： 2019-12-05
- 发明人: 嶋田 雅彦 , 市川 幸司
- 申请人： 住友化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 代理商 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
- 优先权： JP2018099738 2018-05-24
- 主分类号： C08F12/22
- IPC分类号： C08F12/22 ; G03F7/039 ; G03F7/038 ; G03F7/004 ; G03F7/20 ; C07D305/06 ; C07D303/16 ; C08F20/26
摘要：
【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる化合物及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される化合物及びこれを含むレジスト組成物。 R 1 は、水素又はメチル基、X 1 は、特定の式で表される基を表す。 【選択図】なし
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