Invention Patent
- Patent Title: N,N−二置換アミドの製造方法およびN,N−二置換アミド製造用触媒
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Application No.: JP2018143522Application Date: 2018-07-31
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Publication No.: JP2020019736APublication Date: 2020-02-06
- Inventor: 上田 祥之 , 渋谷 彰 , 宮田 英雄 , 内田 博
- Applicant: 昭和電工株式会社
- Applicant Address: 東京都港区芝大門1丁目13番9号
- Assignee: 昭和電工株式会社
- Current Assignee: 昭和電工株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区芝大門1丁目13番9号
- Agent 及川 周; 荒 則彦; 勝俣 智夫
- Main IPC: C07C233/05
- IPC: C07C233/05 ; B01J29/40 ; B01J29/46 ; B01J29/14 ; B01J23/72 ; C07C231/06
Abstract:
【課題】液相反応でも気相反応でもニトリルとアルコールとの反応によりN,N−二置換アミドが得られ、反応後に得られた目的物と触媒との分離が容易であるN,N−二置換アミドの製造方法を提供する。 【解決手段】ニトリルとアルコールとを触媒の存在下で反応させて、N,N−二置換アミドを製造するN,N−二置換アミドの製造方法であり、前記触媒が、担体と、前記担体に担持された金属酸化物とからなる不均一触媒であって、担体が、ゼオライト、シリカおよびアルミナから選択される少なくとも一種であり、金属酸化物に含まれる金属が、銅とモリブデンから選択される少なくとも一種を含むN,N−二置換アミドの製造方法とする。 【選択図】なし
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