发明专利
JP2021091960A 熱処理装置
审中-公开
- 专利标题: 熱処理装置
- 专利标题(英): HEAT TREATMENT DEVICE
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申请号: JP2020193632申请日: 2020-11-20
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公开(公告)号: JP2021091960A公开(公告)日: 2021-06-17
- 发明人: 永田 真人 , 赤阪 素史
- 申请人: 中外炉工業株式会社
- 申请人地址: 大阪府大阪市中央区平野町3丁目6番1号
- 专利权人: 中外炉工業株式会社
- 当前专利权人: 中外炉工業株式会社
- 当前专利权人地址: 大阪府大阪市中央区平野町3丁目6番1号
- 代理商 山田 卓二; 奥西 祐之
- 优先权: JP2019222033 2019-12-09
- 主分类号: C21D1/76
- IPC分类号: C21D1/76 ; C21D1/74 ; F27B9/04 ; F27D7/06 ; C21D9/56
摘要:
【課題】還元雰囲気中でも、SiO 2 を含むセラミックファイバー製の断熱材の劣化を抑制できる、金属ストリップを光輝焼鈍するための熱処理装置を提供する。 【解決手段】熱処理装置1は、金属ストリップ3を加熱する加熱帯12と、加熱帯12の炉内壁として使用されて、SiO 2 を含むセラミックファイバー製である断熱材17と、加熱帯12に還元性ガスを供給するガス供給部9,28,28aとを備え、金属ストリップ3が光輝性を有することを可能にする上限露点と、断熱材17に含まれるSiO 2 の還元を不可にする下限露点との間で、露点が保たれるように、金属ストリップ3を還元雰囲気中で光輝焼鈍する。 【選択図】図6
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