发明专利
- 专利标题： 酸性ガス除去装置および酸性ガス除去方法
- 专利标题（英）： ACIDIC GAS REMOVAL DEVICE AND ACIDIC GAS REMOVAL METHOD
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申请号： JP2020040120申请日： 2020-03-09
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公开(公告)号： JP2021137776A公开(公告)日： 2021-09-16
- 发明人: 斉藤 ひとみ , 佐野 健二 , 今田 敏弘 , 鈴木 昭子
- 申请人： 株式会社東芝
- 申请人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 专利权人： 株式会社東芝
- 当前专利权人： 株式会社東芝
- 当前专利权人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 代理商 中村 行孝; 朝倉 悟; 関根 毅; 鈴木 順生; 前川 英明
- 主分类号： C01B32/50
- IPC分类号： C01B32/50 ; C01F7/00 ; B01D53/14
摘要：
【課題】酸性ガス除去装置の再生塔において、低い温度で酸性ガスを放出でき、酸性ガスの放出速度が大きく、さらに酸性ガスの継続的放出を可能とする複合体、それを利用した、再生器および酸性ガス除去装置、ならびに酸性ガス除去方法の提供。 【解決手段】酸性ガスを吸収した酸性ガス吸収剤から、酸性ガスを離脱させて前記酸性ガス吸収剤を再生することができる複合体であって、無機層状化合物とアルミニウム含有酸化物とを含む複合体、その複合体を利用して、酸性ガスを吸収した酸性ガス吸収剤から酸性ガスを脱離させて、前記酸性ガス吸収剤を再生する再生器、およびその再生器を具備した酸性ガス除去装置。 【選択図】なし
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