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发明专利
JP2021531975A 可変温度反応器、可変温度反応器のためのヒータおよび制御回路 审中-公开

可変温度反応器、可変温度反応器のためのヒータおよび制御回路
摘要：
その中に所定の反応を受け入れるための可変温度反応器が記載されている。反応器は、反応セル、ヒータ、およびヒートシンクを備える。反応セルは、厚さH V および幅W V を有する反応体積を有し、ここで、W V >4H V であり、反応体積のより大きな面積の面の1つが、厚さH W を有する外壁によって境界付けられている面によって画定されている。ヒータは前記外壁と接触している。ヒータは、反応体積により近い面に配置された発熱加熱要素と、反対側の面にあるヒータ支持体とを備える。ヒータ支持体はヒートシンクと接触しており、ヒータ支持体は加熱要素とヒートシンクとの間に熱抵抗R T を与える。反応器は、熱拡散係数D V を有する試薬で充填された場合、厚さ方向に拡散時間t V を有し、t V =H V 2 /D V である。t V は反応時定数t R よりも小さい。外壁は熱拡散係数はD W を有し、熱拡散時間はt W =H W 2 /D W

Vである。
摘要（英）：

There is described a variable-temperature reactor for hosting a predetermined reaction therein. The reactor comprises a reaction cell, a heater, and a heat sink. The reaction cell has a reaction volume with thickness Hv and width Wv where Wv>4Hv and is defined by faces with one of the larger area faces of the reaction volume being bounded by an outer wall with thickness Hw. The heater is in contact with the said outer wall. The heater comprises a heat-generating heater element located on the face closer to the reaction volume and a heater support on the opposite face. The heater support is in contact with a heat sink, such that the heater support provides a thermal resistance RT between the heater element and the heat sink. The reactor, when filled with reagents having thermal diffusion coefficient Dv has a diffusion time tv, in the thickness direction, tv=Hv2/Dv. tv is less than the reaction time constant tR. The outer wall has a thermal diffusion coefficient Dw and has a thermal diffusion time tw=Hw2|Dw

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