- 专利标题： 現像剤組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法
- 专利标题（英）： JP6290332B2 - How to developer compositions, and photolithography patterning
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申请号： JP2016159080申请日： 2016-08-15
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公开(公告)号： JP6290332B2公开(公告)日： 2018-03-07
- 发明人: ヤン・チョル・ペ , スン−ヒョン・リー
- 申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 申请人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 代理商 特許業務法人センダ国際特許事務所
- 优先权： US61/447,675 2011-02-28
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F7/40 ; H01L21/027 ; G03F7/32
公开/授权文献
- JP2017021352A 現像剤組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 公开/授权日：2017-01-26
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