Invention Patent
- Patent Title: 赤外線反射多層膜付き基材、および赤外線反射多層膜付き基材の製造方法
-
Application No.: JP2017034213Application Date: 2017-02-25
-
Publication No.: JP6877180B2Publication Date: 2021-05-26
- Inventor: 島田 誠之
- Applicant: 島田 誠之
- Applicant Address: 東京都杉並区天沼2丁目5番7号 アーバンハイツキムラ401号室
- Assignee: 島田 誠之
- Current Assignee: 島田 誠之
- Current Assignee Address: 東京都杉並区天沼2丁目5番7号 アーバンハイツキムラ401号室
- Agent 渡會 祐介
- Main IPC: G02B5/28
- IPC: G02B5/28 ; G02B5/22 ; B32B7/023 ; B32B9/00 ; G02B5/26
Public/Granted literature
- JPWO2018062012A1 放射冷却装置 Public/Granted day:2019-02-14
Information query
