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发明专利
JPWO2016024425A1 素子、絶縁膜及びその製造方法、並びに感放射線性樹脂組成物 审中-公开

素子、絶縁膜及びその製造方法、並びに感放射線性樹脂組成物
摘要：
[課題]アウトガスの発生量が少なく、紫外域近辺において遮光性を有する絶縁膜を有する表示又は照明装置用素子を提供する。[解決手段](B)感光剤と、(C)式(C1)で表される構造単位を有する樹脂、および式(C2)で表される構造を有する樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物から形成された絶縁膜を有する表示又は照明装置用素子。[式(C1)中、Aはフェノール性水酸基を有する2価の芳香族基であり、Lは特定の式で表される1価の基であり、式(C2)中、A’はフェノール性水酸基を有するk+m+n価の芳香族基であり、Lは特定の式で表される1価の基であり、複数あるLは各々同一であっても異なっていてもよく、*は他のA’との結合手であり、kは0〜9の整数であり、mは0〜9の整数であり、nは0〜9の整数であり、k+m+nは1〜9の整数である。]
摘要（英）：

[Problems] less the amount of generated outgas, to provide a display or lighting device element having an insulating film having a light shielding property in the vicinity ultraviolet region.
And [SOLUTION] (B) a photosensitive agent, and at least one resin selected from resins having the structure represented by formula (C) a resin having a structural unit represented by (C1), and the formula (C2) display or lighting device element having an insulating film formed from the radiation-sensitive resin composition containing a.


Wherein (C1), A is a divalent aromatic group having a phenolic hydroxyl group, L is a monovalent group represented by a specific formula wherein (C2), A 'is a phenolic a k + m + n valent aromatic group having a hydroxyl group, L is a monovalent group represented by a specific formula, a plurality of L may be each independently selected from the same, * the other a ' a binding position to, k is an integer from 0 to 9, m is an an integer from 0 to 9, n is an integer from 0 to 9, k + m + n is an integer of 1 to 9. ]

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