Invention Patent
- Patent Title: システムへのログイン方法
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Application No.: JP2018021596Application Date: 2018-06-05
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Publication No.: JPWO2018225746A1Publication Date: 2020-04-16
- Inventor: 溝口 ▲さとし▼ , 岸川 正大 , 溝口 眞理子
- Applicant: 溝口 さとし
- Applicant Address: 東京都新宿区中井二丁目10番8号 二の坂シティハウス 108
- Assignee: 溝口 さとし
- Current Assignee: 溝口 さとし
- Current Assignee Address: 東京都新宿区中井二丁目10番8号 二の坂シティハウス 108
- Agent 特許業務法人コスモ国際特許事務所
- Priority: JP2017113065 2017-06-08
- Main IPC: G06K19/06
- IPC: G06K19/06 ; G06K7/10 ; G06K7/14 ; G16H10/60 ; G06F21/31
Abstract:
【課題】電子カルテに記録される個人情報は極秘情報であり、通常使用されて知識情報を利用した認証は、導入しやすくコストが安価で簡単に導入できるが、情報漏えいに対するセキュリティに問題がある。また、顔認証・目の虹彩認証方法は導入費用高価である。本システムは、セキュリティに配慮した電子カルテ用システムへのログイン方法を提供する。 【解決手段】携帯端末に高密度二次元コードを作成する機能を具備し、高密度二次元コードに電子カルテ用システムへのアクセス情報、タイムスタンプも記録して、高密度二次元コードをタイムスタンプの時刻情報に同期して変形生成表示させて、高密度二次元コード認証用読み取りスキャナにより生成された高密度二次元コードを読み取ることにより、セキュリティに配慮した電子カルテ用システムへのログインが可能となる。 【選択図】図1
Public/Granted literature
- JP2019138202A 注入装置 Public/Granted day:2019-08-22
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