Invention Patent
- Patent Title: 描画方法および消去方法ならびに描画装置
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Application No.: JP2019039981Application Date: 2019-10-10
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Publication No.: JPWO2020090402A1Publication Date: 2021-09-24
- Inventor: 栗原 研一 , 竹内 太一 , 手島 飛鳥 , 首藤 綾
- Applicant: ソニーグループ株式会社
- Applicant Address: 東京都港区港南1丁目7番1号
- Assignee: ソニーグループ株式会社
- Current Assignee: ソニーグループ株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区港南1丁目7番1号
- Agent 特許業務法人つばさ国際特許事務所
- Priority: JP2018204198 2018-10-30
- Main IPC: B41M5/26
- IPC: B41M5/26 ; G11B7/0045 ; G11B7/135 ; B41J2/475
Abstract:
本開示の一実施形態の描画方法は、記録層の上方に光透過部材を備えた感熱性記録媒体に対して描画する際に、光透過部材の情報を取得し、光透過部材の情報から、記録層におけるレーザ光の光軸ズレを予測し、光軸ズレの予測結果から補正量を計算する。
Public/Granted literature
- JP2020145291A 半導体レーザ装置の製造方法、及び、半導体レーザ装置 Public/Granted day:2020-09-10
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