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KR100644257B1 반도체 칩 제조에 있어서 세정 및 용수 회수 공정의 효율을 증대시키기 위한 형광 분석 방법 失效 - Ended
一种用于提高半导体芯片制造中的冲洗和水回收过程效率的荧光测定方法

  • 专利标题： 반도체 칩 제조에 있어서 세정 및 용수 회수 공정의 효율을 증대시키기 위한 형광 분석 방법
  • 专利标题（英）： A fluorometric method for increasing the efficiency of the rinsing and water recovery process in the manufacture of semiconductor chips
  • 专利标题（中）： 一种用于提高半导体芯片制造中的冲洗和水回收过程效率的荧光测定方法
  • 申请号： KR1020007002669
    申请日： 1998-09-10
  • 公开(公告)号： KR100644257B1
    公开(公告)日： 2006-11-10
  • 发明人: 젠킨스브라이언브이. , 후츠존이.
  • 申请人： 날코 컴파니
  • 申请人地址： **** West Diehl Road, Naperville, Illinois, U.S.A
  • 专利权人： 날코 컴파니
  • 当前专利权人： 날코 컴파니
  • 当前专利权人地址： **** West Diehl Road, Naperville, Illinois, U.S.A
  • 代理商 강성배
  • 优先权： US08/931,556 1997-09-16
  • 国际申请： PCT/US1998/018925 1998-09-10
  • 国际公布： WO1999014798 1999-03-25
  • 主分类号： H01L21/66
  • IPC分类号： H01L21/66
반도체 칩 제조에 있어서 세정 및 용수 회수 공정의 효율을 증대시키기 위한 형광 분석 방법
摘要：
본 발명은 반도체 칩의 웨이퍼 세척 용액의 불순물을 형광 분석 모니터링함으로써 웨이퍼의 청결도를 확인할 수 있는 방법에 관한 것이다. 반도체 칩의 세정이 진행됨에 따라, 불순물 농도의 증가세가 멈추면, 칩이 청결화된 것으로 판단한다. 본 발명은 세정 과정 후에 방출되는 용수 내부의 오염 물질을 정확히 측정함으로써, 상기 용수의 재사용 또는 재활용을 최적화시킬 수 있는 방법에 관한 것이다.
摘要（英）：

The present invention relates to a method to check the cleanliness of the wafer by monitoring the fluorescence analysis of the impurities in the wafer cleaning solutions in the semiconductor chip. In accordance with the progress of cleaning of the semiconductor chip, the increase of the impurity concentration stopped, it is determined that the chip is clean screen. The present invention relates to a process that can be optimized by accurately measuring the contaminants in the water that is released after the internal cleaning process, re-use or recycling of the water.

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