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KR101670624B1 스테이지 장치, 패턴 형성 장치, 노광 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
阶段装置图案装置曝光装置阶段驱动装置曝光方法和装置制造方法

  • 专利标题： 스테이지 장치, 패턴 형성 장치, 노광 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법
  • 专利标题（英）： Stage apparatus, patterning apparatus, exposure apparatus, stage drive apparatus, exposure method, and device fabrication method
  • 专利标题（中）： 阶段装置图案装置曝光装置阶段驱动装置曝光方法和装置制造方法
  • 申请号： KR1020157035708
    申请日： 2009-04-30
  • 公开(公告)号： KR101670624B1
    公开(公告)日： 2016-11-09
  • 发明人: 시바자키유이치
  • 申请人： 가부시키가이샤 니콘
  • 申请人地址： *-**-*, Konan, Minato-ku, Tokyo, Japan
  • 专利权人： 가부시키가이샤 니콘
  • 当前专利权人： 가부시키가이샤 니콘
  • 当前专利权人地址： *-**-*, Konan, Minato-ku, Tokyo, Japan
  • 代理商 특허법인코리아나
  • 优先权： JPJP-P-2008-119233 2008-04-30
  • 国际申请： PCT/JP2009/001949 2009-04-30
  • 国际公布： WO2009133702 2009-11-05
  • 主分类号： G03F7/20
  • IPC分类号： G03F7/20 ;  G01B11/03 ;  G01D5/38 ;  G01D5/347 ;  H01L21/027
스테이지 장치, 패턴 형성 장치, 노광 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법
摘要：
스테이지장치는, XY 평면을따라이동하는조동스테이지 (91) 와, 그조동스테이지상에서, 적어도 XY 평면에평행한방향으로미동가능한테이블 (WTB) 을갖는웨이퍼스테이지와, 인코더시스템을구비하고있다. 조동스테이지에는복수의인코더헤드 (60C 등) 가형성되어있다. 각헤드는, XY 평면에평행하게배치된제 1 그레이팅부 (RG) 및테이블에형성된제 2 그레이팅부 (RG2)에각각계측빔 (LB, LB)등을조사하여, 제 1 및제 2 그레이팅부각각으로부터의회절광을수광한다. 인코더시스템은, 제 1 및제 2 그레이팅부에대향하는적어도 1 개의인코더헤드의출력에기초하여, XY 평면내에있어서의테이블 (웨이퍼스테이지) 의위치정보를계측한다.
摘要（英）：

The stage apparatus is provided with a with a coarse movement stage 91 that moves along the XY plane, a wafer stage having on the coarse movement stage, the fine motion table capable (WTB) in a direction parallel to at least the XY plane, encoder system. Coarse movement stage is formed with a plurality of encoder heads (such as 60C). Each head includes a second grating section (RG2 Y) formed on the XY plane of the first grating section (RG) placed parallel to the table and Each measurement beam on (LB 1, LB 2) By irradiation or the like, and receives a first and a diffracted light from the second grating section, respectively. The encoder system is the liquid on the basis of an output of the at least one encoder head that faces the first portion and the second grating, and measuring the position information of the table (wafer stage), within the XY plane.

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