发明授权
KR101732205B1 N-아실-β-락탐 유도체, 고분자 화합물 및 포토레지스트 조성물 有权
N-酰基-β-内酰胺衍生物,聚合物化合物和光刻胶组合物

  • 专利标题: N-아실-β-락탐 유도체, 고분자 화합물 및 포토레지스트 조성물
  • 专利标题(英): --- n-acyl--lactam derivative macromolecular compound and photoresist composition
  • 专利标题(中): N-酰基-β-内酰胺衍生物,聚合物化合物和光刻胶组合物
  • 申请号: KR1020127004936
    申请日: 2010-08-27
  • 公开(公告)号: KR101732205B1
    公开(公告)日: 2017-05-02
  • 发明人: 후쿠모토다카시마츠나가슈지츠루타미키
  • 申请人: 주식회사 쿠라레
  • 申请人地址: 일본국 오카야마켄 구라시키시 사카즈****
  • 专利权人: 주식회사 쿠라레
  • 当前专利权人: 주식회사 쿠라레
  • 当前专利权人地址: 일본국 오카야마켄 구라시키시 사카즈****
  • 代理商 특허법인코리아나
  • 优先权: JPJP-P-2009-199026 2009-08-28
  • 国际申请: PCT/JP2010/064604 2010-08-27
  • 国际公布: WO2011024953 2011-03-03
  • 主分类号: C08F20/34
  • IPC分类号: C08F20/34 C08F20/52 G03F7/039 H01L21/027
N-아실-β-락탐 유도체, 고분자 화합물 및 포토레지스트 조성물
摘要:
산확산길이를짧게제어하는포토레지스트조성물이얻어지는하기일반식으로나타내는 N-아실-β-락탐유도체, 그하기일반식으로나타내는 N-아실-β-락탐유도체를원료의하나로서중합함으로써얻어지는고분자화합물, 및그 고분자화합물을함유하는포토레지스트조성물을제공한다.(식중, R은수소원자, 메틸기, 또는트리플루오로메틸기를나타낸다. W 는알킬렌기또는시클로알킬렌기를나타낸다. n 은 0 또는 1 을나타낸다. R, R, R및 R는각각독립적으로수소원자, 알킬기, 고리형탄화수소기또는아실옥시기를나타낸다. 단, 1) R와 R, R와 R는연결하여임의의위치에산소원자를갖고있어도되는치환또는비치환의고리를형성해도되고, 2) R과 R는연결하여임의의위치에산소원자를갖고있어도되는치환또는비치환의고리를형성해도되고, 또한, 3) R, R, R및 R의모두가동시에수소원자인경우는없다)
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