发明公开
- 专利标题： 복합 산화물 소결체 및 그것으로 이루어지는 스퍼터링 타겟
- 专利标题（英）： Sintered complex oxide and sputtering target comprising same
- 专利标题（中）： 烧结复合氧化物和包含相同的溅射靶
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申请号： KR1020117013690申请日： 2009-12-03
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公开(公告)号： KR1020110104495A公开(公告)日： 2011-09-22
- 发明人: 야노고키 , 가와시마히로카즈
- 申请人： 이데미쓰 고산 가부시키가이샤
- 申请人地址： 일본 도쿄도 지요다쿠 마루노우치 *쵸메 *반 *고
- 专利权人： 이데미쓰 고산 가부시키가이샤
- 当前专利权人： 이데미쓰 고산 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址： 일본 도쿄도 지요다쿠 마루노우치 *쵸메 *반 *고
- 代理商 제일특허법인
- 优先权： JPJP-P-2008-318294 2008-12-15
- 国际申请： PCT/JP2009/006596 2009-12-03
- 国际公布： WO2010070832 2010-06-24
- 主分类号： H01L29/786
- IPC分类号： H01L29/786 ; H01L29/22 ; H01L29/24 ; H01L21/02
摘要：
상동 결정 구조의 In
2 Ga
2 ZnO
7 을 포함하고, 소결체 밀도가 상대 밀도로 90% 이상이며, 평균 결정 입경이 10μm 이하인 복합 산화물 소결체.
2 Ga
2 ZnO
7 을 포함하고, 소결체 밀도가 상대 밀도로 90% 이상이며, 평균 결정 입경이 10μm 이하인 복합 산화물 소결체.
公开/授权文献
- KR101658256B1 복합 산화물 소결체 및 그것으로 이루어지는 스퍼터링 타겟 公开/授权日：2016-09-20
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