Invention Publication
- Patent Title: 티타늄 광석 선광용 내화 라이닝
- Patent Title (English): Refractory lining for titanium ore beneficiation
- Patent Title (中): 用于钛金属受益的耐火衬里
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Application No.: KR1020117028908Application Date: 2010-05-05
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Publication No.: KR1020120023054APublication Date: 2012-03-12
- Inventor: 바네스,존,제임스 , 느구옌,다트 , 힐,피터 , 쉬클링,제이,스코트
- Applicant: 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
- Applicant Address: Chestnut Run Plaza, *** Centre Road, P.O. Box ****, Wilmington, Delaware *****, U.S.A.
- Assignee: 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
- Current Assignee: 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
- Current Assignee Address: Chestnut Run Plaza, *** Centre Road, P.O. Box ****, Wilmington, Delaware *****, U.S.A.
- Agent 양영준; 양영환; 김영
- Priority: US61/175,619 2009-05-05
- International Application: PCT/US2010/033678 2010-05-05
- International Announcement: WO2010129643 2010-11-11
- Main IPC: F27D1/00
- IPC: F27D1/00 ; F27D1/16 ; F27B7/28 ; F27B3/14 ; C21B13/00 ; C21B13/10 ; C22B34/12 ; C22B1/02
Abstract:
본 발명은 로, 특히 회전로상식 환원로 내에서 티타늄-광석 선광 동안 내화물을 훼손하는 부식에 저항성인 내화물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은
(a) 보다 큰 비율의 알루미나 및 보다 작은 비율의 지르코니아를 포함하는 제1 층;
(b) 용융 슬래그에 대한 저항제를 포함하는 제2 층 - 여기서, 제2 층은 슬래그와 제1 층 사이에 존재함 - 을 포함하며, 산화티타늄-풍부 용융 슬래그가 형성되는 티타늄 광석 선광 공정에서 사용하기 위한 로를 위한 적층 내화 라이닝에 관한 것이다.
(a) 보다 큰 비율의 알루미나 및 보다 작은 비율의 지르코니아를 포함하는 제1 층;
(b) 용융 슬래그에 대한 저항제를 포함하는 제2 층 - 여기서, 제2 층은 슬래그와 제1 층 사이에 존재함 - 을 포함하며, 산화티타늄-풍부 용융 슬래그가 형성되는 티타늄 광석 선광 공정에서 사용하기 위한 로를 위한 적층 내화 라이닝에 관한 것이다.
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