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发明公开
KR1020140125429A 주입 용품에서 인 축적을 최소화하기 위한 대체 물질 및 혼합물 审中-实审
替代植物材料和混合物以最小化植入物中的磷酸酶

  • 专利标题： 주입 용품에서 인 축적을 최소화하기 위한 대체 물질 및 혼합물
  • 专利标题（英）： Alternate materials and mixtures to minimize phosphorus buildup in implant applications
  • 专利标题（中）： 替代植物材料和混合物以最小化植入物中的磷酸酶
  • 申请号： KR1020147025524
    申请日： 2013-02-14
  • 公开(公告)号： KR1020140125429A
    公开(公告)日： 2014-10-28
  • 发明人: 레이리차드에스
  • 申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.
  • 申请人地址： *** Concord Road, Billerica, Massachusetts *****, U.S.A.
  • 专利权人： 엔테그리스, 아이엔씨.
  • 当前专利权人： 엔테그리스, 아이엔씨.
  • 当前专利权人地址： *** Concord Road, Billerica, Massachusetts *****, U.S.A.
  • 代理商 제일특허법인
  • 优先权： US61/598,704 2012-02-14
  • 国际申请： PCT/US2013/026064 2013-02-14
  • 国际公布： WO2013123140 2013-08-22
  • 主分类号： H01L21/265
  • IPC分类号： H01L21/265 ;  H01J37/317
주입 용품에서 인 축적을 최소화하기 위한 대체 물질 및 혼합물
摘要：
본 발명은 이온 주입기 시스템에서 원치 않는 인 침착물의 축적을 감소시키기 위하여 인 도판트 소스 조성물로서 포스핀 대신 또는 포스핀과 함께 플루오르화인을 사용하는 시스템 및 방법에 관한 것이다. 플루오르화인은 PF
3 및/또는 PF
5 를 포함할 수 있다. 플루오르화인과 포스핀을 이온 주입기로 함께 유동시킬 수 있거나, 이러한 인 도판트 소스 물질 각각을 이온 주입기로 별도로 교대하여 또한 연속적으로 유동시켜, 인 도판트 소스 물질로서 포스핀만 사용하는 상응하는 공정 시스템에 비해 주입기에서의 원치 않는 인 고형분 축적을 감소시킬 수 있다.
摘要（英）：

The present invention as the dopant source composition to reduce the unwanted deposits that accumulate in the ion implanter system to a system and method that uses a fluorine Fine with a phosphine in place of or phosphine. Fine fluorine may include a PF 3 and / or PF 5. Fluorine or can flow with a fine and a phosphine in an ion implanter, by alternately separate these a dopant source material, respectively in an ion implanter also to flow continuously, the dopant corresponding process system that uses only a phosphine as a source material compared can reduce the accumulation of unwanted solids from the injector.

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