Invention Publication
- Patent Title: 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법
- Patent Title (English): Apparatus and method for forming pattern
- Patent Title (中): 用于形成图案的装置和方法
-
Application No.: KR1020130097216Application Date: 2013-08-16
-
Publication No.: KR1020150019839APublication Date: 2015-02-25
- Inventor: 윤종문 , 김민구 , 김태홍 , 정지현
- Applicant: (주)뉴옵틱스
- Applicant Address: 경기도 양주시 남면 휴암로***번길 ***
- Assignee: (주)뉴옵틱스
- Current Assignee: (주)뉴옵틱스
- Current Assignee Address: 경기도 양주시 남면 휴암로***번길 ***
- Agent 이재찬
- Main IPC: G02F1/1335
- IPC: G02F1/1335 ; G02F1/13357 ; G02B6/00 ; G02F1/13
Abstract:
본 발명은 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 도광판 등의 광학 시트의 두께를 균일하게 유지하면서 측면에 패턴을 형성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 측면에 따르면, , 광학 시트가 베이스 플레이트에 탑재되는 단계; 상기 베이스 플레이트의 상부에 설치된 고정 플레이트가 하강하는 단계; 상기 베이스 플레이트로부터 상방으로 연장되고, 그 높이가 상기 광학 시트의 두께보다 큰 가이드 블록이 상기 고정 플레이트를 상기 광학 시트의 상면과 미리 정해진 간격으로 이격 고정시키는 단계; 패턴 전사기가 상기 광학 시트의 측면에 패턴 전사를 수행하는 단계; 및 상기 고정 플레이트가 상기 패턴 전사 동안 상기 미리 정해진 간격으로 상기 패턴 전사에 의한 상기 광학 시트의 변형을 허용하여 상기 광학 시트의 두께를 균일하게 제어하는 단계;를 포함하는 패턴 전사 방법이 제공될 수 있다.
Public/Granted literature
- KR101517291B1 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법 Public/Granted day:2015-05-04
Information query
IPC分类: