Invention Publication
- Patent Title: 기재 상에 임프린트를 퇴적시키기 위한 시스템
- Patent Title (English): A system for depositing an imprint onto a substrate
- Patent Title (中): 用于将印迹沉积在基底上的系统
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Application No.: KR1020157026137Application Date: 2014-03-13
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Publication No.: KR1020150132193APublication Date: 2015-11-25
- Inventor: 해리슨,마이클제이. , 올슨,앤드류와이. , 플랫,윌리엄디. , 그롯요한,리차드 , 얀스반렌스부르그,리차드빌헬름
- Applicant: 처치 앤드 드와이트 캄파니 인코포레이티드
- Applicant Address: 미국 뉴져지 ***** 프린스톤 노쓰 해리슨 스트리트 ***
- Assignee: 처치 앤드 드와이트 캄파니 인코포레이티드
- Current Assignee: 처치 앤드 드와이트 캄파니 인코포레이티드
- Current Assignee Address: 미국 뉴져지 ***** 프린스톤 노쓰 해리슨 스트리트 ***
- Agent 차윤근
- Priority: US61/789,879 2013-03-15
- International Application: PCT/US2014/026426 2014-03-13
- International Announcement: WO2014151772 2014-09-25
- Main IPC: B29C59/02
- IPC: B29C59/02 ; A61F6/04
Abstract:
기재상에임프린트를퇴적시키기위한시스템은내부에배치된적어도하나의유출구를갖는퇴적표면, 퇴적표면에맞대어기재를유지하고있기위한기재홀더, 기재상에재료를퇴적시키기위해상기적어도유출구를통해상기재료를공급하도록퇴적표면과작동가능하게연관된수단, 및퇴적표면과기재사이에서접촉하게배치된스페이서부재를포함한다.
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