发明公开
KR1020160101931A 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스터 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 审中-实审
感光性树脂组合物,感光元件,形成电阻图案的方法以及制造印刷电路板的方法

  • 专利标题: 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스터 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
  • 专利标题(英): Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for manufacturing printed circuit board
  • 专利标题(中): 感光性树脂组合物,感光元件,形成电阻图案的方法以及制造印刷电路板的方法
  • 申请号: KR1020167016529
    申请日: 2014-12-22
  • 公开(公告)号: KR1020160101931A
    公开(公告)日: 2016-08-26
  • 发明人: 오카데쇼타미야사카마사히로무라마츠유키코
  • 申请人: 히타치가세이가부시끼가이샤
  • 申请人地址: *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
  • 专利权人: 히타치가세이가부시끼가이샤
  • 当前专利权人: 히타치가세이가부시끼가이샤
  • 当前专利权人地址: *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
  • 代理商 특허법인원전
  • 优先权: JPJP-P-2013-271831 2013-12-27
  • 国际申请: PCT/JP2014/083965 2014-12-22
  • 国际公布: WO2015098870 2015-07-02
  • 主分类号: G03F7/033
  • IPC分类号: G03F7/033 G03F7/028 G03F7/20 H05K3/06 H05K3/18
감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스터 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
摘要:
감광성수지조성물은, 바인더폴리머와, 광중합성화합물과, 광중합개시제를함유한다. 바인더폴리머는, (메타)아크릴산에서유래하는구조단위, 스티렌또는α-메틸스티렌에서유래하는구조단위, 및탄소수가 1∼12인하이드록시알킬기를가지는 (메타)아크릴산하이드록시알킬에스테르에서유래하는구조단위를가진다. 광중합성화합물은, 에틸렌옥시기의구조단위수가 1∼20이며, 프로필렌옥시기의구조단위수가 0∼7인비스페놀형디(메타)아크릴레이트를포함한다.
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