- 专利标题： 포토레지스트 용액 중 겔입자를 제거하는 멤브레인, 이의 제조방법 및 이의 용도
- 专利标题（英）： KR20180090638A - Membrane for removing gel particles in photoresist solution, preparation method and use thereof
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申请号： KR1020170015743申请日： 2017-02-03
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公开(公告)号： KR1020180090638A公开(公告)日： 2018-08-13
- 发明人: 김인철 , 안은숙
- 申请人： 한국화학연구원
- 申请人地址： ***, Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon, *****, Republic of Korea
- 专利权人： 한국화학연구원
- 当前专利权人： 한국화학연구원
- 当前专利权人地址： ***, Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon, *****, Republic of Korea
- 代理商 손민
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; H01L21/02 ; G03F1/62
摘要：
본발명은포토레지스트용액중 겔입자를제거하는멤브레인의제조방법및 상기멤브레인의사용방법에관한것으로, 상기제조방법은평균기공크기가 0.01 ㎛이상인다공성고분자지지체를준비하는제1단계; 상기다공성고분자지지체를, 겔입자를흡착하는작용기를구비한방향족폴리아미드함유용액내에서함침시키는제2단계; 및상기방향족폴리아미드함유용액이함침된지지체를비용매에침지시켜상기방향족폴리아미드를고형화하여상기지지체의표면에존재하는기공을채워, 평균기공크기가 0.005 내지 0.1 ㎛인 범위내에서상기다공성고분자지지체보다작은크기의기공을갖는멤브레인을제조하는제3단계;를포함한다.
公开/授权文献
- KR101902499B1 포토레지스트 용액 중 겔입자를 제거하는 멤브레인, 이의 제조방법 및 이의 용도 公开/授权日：2018-09-28
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