- 专利标题: 도네페질 함유 서방출성 PLGA 미립구의 제조방법
- 专利标题(英): KR102237737B1 - Methods for preparation of donepezil loaded sustained-release PLGA microsphere
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申请号: KR1020200084894申请日: 2020-07-09
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公开(公告)号: KR102237737B1公开(公告)日: 2021-04-08
- 发明人: 김미정 , 이상휘 , 정두용 , 김예지 , 박재형 , 김세종
- 申请人: 에이치엘비제약 주식회사
- 申请人地址: 경기도 남양주시...
- 专利权人: 에이치엘비제약 주식회사
- 当前专利权人: 에이치엘비제약 주식회사
- 当前专利权人地址: 경기도 남양주시...
- 代理商 특허법인한얼
- 主分类号: A61K9/16
- IPC分类号: A61K9/16 ; A61K31/445 ; A61P25/28
摘要:
본발명은도네페질함유서방출성 PLGA 미립구의제조방법에관한것으로, 구체적으로, 도네페질함유서방출성 PLGA 미립구의제조방법에있어서, i) 도네페질또는이의약제학적으로허용되는염, PLGA(Poly(lactic-co-glycolic acid) 및유기용매를포함하는분산상을미세유체칩에주입하여미립구액적을제조하는단계; 및 ii) 상기미립구액적을, 계면활성제가포함된 15 내지 25℃의수상에분산시키는단계를포함하는것인도네페질함유서방출성 PLGA 미립구의제조방법에관한것이다. 본발명의도네페질함유서방출성 PLGA 미립구의제조방법은고함량의도네페질을함유하면서제조재현성이높은서방출성미립구를제조할수 있는바, 안전하면서안정적인치료제제조등에이용될수 있다.
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