• 专利标题: 화합물, 산 발생제, 중합체, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법
  • 专利标题(英): COMPOUND ACID GENERATOR POLYMER RESIST COMPOSITION AND METHOD OF PRODUCING RESIST PATTERN
  • 申请号: KR1020170079186
    申请日: 2017-06-22
  • 公开(公告)号: KR102326722B1
    公开(公告)日: 2021-11-15
  • 优先权: JPJP-P-2016-126021 2016-06-24
  • 主分类号: C07C309/22
  • IPC分类号: C07C309/22 C07C303/32 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/004 C08F20/38 G03F7/16 G03F7/32
화합물, 산 발생제, 중합체, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법
摘要:
식 (I) 로나타내는화합물. TIFF112017060042789-pat00142.tif25140 [식 (I) 중, Q1 및 Q2 는, 각각독립적으로, 불소원자또는탄소수 1 ∼ 6 의퍼플루오로알킬기를나타낸다. R1 및 R2 는, 각각독립적으로, 수소원자, 불소원자또는탄소수 1 ∼ 6 의퍼플루오로알킬기를나타낸다. z 는, 0 ∼ 6 중어느정수를나타내고, z 가 2 이상일때, 복수의 R1 및 R2 는서로동일해도되고상이해도된다. X1 은, *1-CO-O-, *1-O-CO-, -O-CO-O- 또는 -O- 를나타내고, *1 은, C(R1)(R2) 또는 C(Q1)(Q2) 와의결합부위를나타낸다. A1 은, 치환기를갖고있어도되는탄소수 2 ∼ 36 의 2 가의탄화수소기를나타내고, 그탄화수소기에포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -CO- 또는 -SO2- 로치환되어있어도된다. X2 는, *2-CO-O-, -O-CO-O- 또는 -O- 를나타내고, *2 는, A1 과의결합부위를나타낸다. R3 및 R4 는, 각각독립적으로, 수소원자또는탄소수 1 ∼ 6 의 1 가의포화탄화수소기를나타낸다. X3 은, 식 (X3-1) ∼식 (X3-8) 중어느것으로나타내는기를나타낸다. TIFF112017060042789-pat00143.tif41146 (식 (X3-1) ∼식 (X3-8) 중, * 는, C(R3)(R4) 와의결합부위를나타낸다.) R5 는, 할로겐원자를가져도되는탄소수 1 ∼ 6 의알킬기, 수소원자또는할로겐원자를나타낸다. Z+ 는, 유기카티온을나타낸다.]
信息查询
0/0