- 专利标题： 세균 및 진균의 감소 및 사멸을 위한 광역학 반응용 조성물, 및 이를 이용한 항균 조성물, 항진균 조성물, 살균 조성물 및 살균방법
- 专利标题（英）： Composition for photodynamic reaction to reduce and kill bacteria and fungi and antimicrobial composition antifungal composition sterilizing composition and sterilization method using the same
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申请号： KR1020200007389申请日： 2020-01-20
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公开(公告)号： KR102397253B1公开(公告)日： 2022-05-13
- 主分类号： A01N65/14
- IPC分类号： A01N65/14 ; A61K8/9789 ; A61K41/00 ; A61P17/10 ; A61P31/04 ; A61P31/10 ; A61Q17/00 ; A61Q19/00
摘要：
세균및 진균의감소및 사멸을위한광역학반응용조성물, 및이를이용한항균조성물, 항진균조성물, 피부상태개선용조성물, 살균조성물및 살균방법을개시한다. 상기광역학반응용조성물은미역줄나무추출물또는이의분획물을유효성분으로포함할수 있다.
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