Invention Patent
- Patent Title: 半導體裝置 SEMICONDUCTOR DEVICE
- Patent Title (English): Semiconductor device
- Patent Title (中): 半导体设备 SEMICONDUCTOR DEVICE
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Application No.: TW096131363Application Date: 2007-08-24
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Publication No.: TW200811972APublication Date: 2008-03-01
- Inventor: 吉田哲哉 YOSHIDA, TETSUYA , 小林充幸 KOBAYASHI, MITSUYUKI
- Applicant: 三洋電機股份有限公司 SANYO ELECTRIC CO., LTD. , 三洋半導體股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR CO., LTD. , 三洋半導體製造股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Applicant Address: 日本 日本 日本
- Assignee: 三洋電機股份有限公司 SANYO ELECTRIC CO., LTD.,三洋半導體股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR CO., LTD.,三洋半導體製造股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Current Assignee: 三洋電機股份有限公司 SANYO ELECTRIC CO., LTD.,三洋半導體股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR CO., LTD.,三洋半導體製造股份有限公司 SANYO SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Current Assignee Address: 日本 日本 日本
- Agent 洪武雄; 陳昭誠
- Priority: 日本 2006-230730 20060828
- Main IPC: H01L
- IPC: H01L
Abstract:
在分立半導體之晶片中,已知有將電流路徑上之第1電極及第2電極設於半導體基板之第1主面側而可以進行覆晶安裝者。但是,因電流於基板內亦朝水平方向流動,故存有電阻成份增加的問題。本發明係將連接至元件區域的第1電極及第2電極設置於第1主面側,且於第2主面側設置具有耐腐蝕性、耐氧化性的低電阻之厚膜金屬層。藉此,減低流通於基板水平方向之電流的電阻成分。此外,藉由適當地選擇厚膜金屬層之厚度,可以抑制成本的增加而減低裝置之電阻値。另外,藉由於厚膜金屬層採用金(Au),可以防止因時間經過所致的厚膜金屬層之變色等不良。
Public/Granted literature
- TWI348742B 半導體裝置 SEMICONDUCTOR DEVICE Public/Granted day:2011-09-11
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