Invention Patent
TW200811972A 半導體裝置 SEMICONDUCTOR DEVICE 失效
半导体设备 SEMICONDUCTOR DEVICE

半導體裝置 SEMICONDUCTOR DEVICE
Abstract:
在分立半導體之晶片中,已知有將電流路徑上之第1電極及第2電極設於半導體基板之第1主面側而可以進行覆晶安裝者。但是,因電流於基板內亦朝水平方向流動,故存有電阻成份增加的問題。本發明係將連接至元件區域的第1電極及第2電極設置於第1主面側,且於第2主面側設置具有耐腐蝕性、耐氧化性的低電阻之厚膜金屬層。藉此,減低流通於基板水平方向之電流的電阻成分。此外,藉由適當地選擇厚膜金屬層之厚度,可以抑制成本的增加而減低裝置之電阻値。另外,藉由於厚膜金屬層採用金(Au),可以防止因時間經過所致的厚膜金屬層之變色等不良。
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