发明专利
TW201027636A 晶片封裝結構的製程 MANUFACTURING PROCESS FOR A CHIP PACKAGE STRUCTURE
审中-公开
芯片封装结构的制程 MANUFACTURING PROCESS FOR A CHIP PACKAGE STRUCTURE
- 专利标题: 晶片封裝結構的製程 MANUFACTURING PROCESS FOR A CHIP PACKAGE STRUCTURE
- 专利标题(英): Manufacturing process for a chip package structure
- 专利标题(中): 芯片封装结构的制程 MANUFACTURING PROCESS FOR A CHIP PACKAGE STRUCTURE
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申请号: TW098101383申请日: 2009-01-15
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公开(公告)号: TW201027636A公开(公告)日: 2010-07-16
- 发明人: 沈更新 , 林峻瑩
- 申请人: 南茂科技股份有限公司 , 百慕達南茂科技股份有限公司
- 申请人地址: CHIPMOS TECHNOLOGIES INC. 新竹縣新竹科學工業園區研發一路1號 TW; 百慕達 CHIPMOS TECHNOLOGIES (BERMUDA) LTD. 百慕達 BM
- 专利权人: 南茂科技股份有限公司,百慕達南茂科技股份有限公司
- 当前专利权人: 南茂科技股份有限公司,百慕達南茂科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: CHIPMOS TECHNOLOGIES INC. 新竹縣新竹科學工業園區研發一路1號 TW; 百慕達 CHIPMOS TECHNOLOGIES (BERMUDA) LTD. 百慕達 BM
- 代理商 詹銘文; 蕭錫清
- 主分类号: H01L
- IPC分类号: H01L
摘要:
一種晶片封裝結構的製程如下所述。首先,提供一具有多個第一開口的圖案化導電層與一配置於其上的第一圖案化防焊層。接著,形成一第二圖案化防焊層於圖案化導電層上,以使第一與第二圖案化防焊層分別配置於圖案化導電層的相對二表面上。然後,接合多個晶片至第一圖案化防焊層上。之後,藉由多條導線電性連接晶片至圖案化導電層,其中導線貫穿圖案化導電層的第一開口。接著,形成至少一封裝膠體。然後,分割封裝膠體、第一與第二圖案化防焊層。
公开/授权文献
- TWI387015B 晶片封裝結構的製程 公开/授权日:2013-02-21
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