发明专利
- 专利标题: 互連結構及其製造方法
- 专利标题(英): Interconnect structure and manufacturing method thereof
- 专利标题(中): 互链接构及其制造方法
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申请号: TW103116348申请日: 2014-05-08
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公开(公告)号: TW201508850A公开(公告)日: 2015-03-01
- 发明人: 陳孟澤 , CHEN, MENG TSE , 林修任 , LIN, HSIU JEN , 林志偉 , LIN, CHIH WEI , 鄭明達 , CHENG, MING DA , 董志航 , TUNG, CHIH-HANG , 劉重希 , LIU, CHUNG SHI
- 申请人: 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 申请人地址: 新竹市
- 专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 当前专利权人: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
- 当前专利权人地址: 新竹市
- 代理商 馮博生
- 优先权: 14/013,597 20130829
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60
摘要:
一種傳導互連結構包含一接觸墊,一導電體之一第一端與該接觸墊相連,以及一導電層位於該導電體之一第二端。該導電體具有一縱向垂直於該接觸墊之一表面。該導電體具有一位於橫截面(面A)之平均粒徑(a),該橫截面之法線垂直於該導電體之縱向。該導電層包含位於面A之一平均粒徑(b)。該導電體及該導電層皆是由相同材料組成,且該平均粒徑(a)大於該平均粒徑(b)。
公开/授权文献
- TWI560787B 互連結構及其製造方法 公开/授权日:2016-12-01
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IPC分类: