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发明专利
TW201634424A 圓筒形濺射靶件、圓筒形成形體、圓筒形濺射靶件之製造方法、圓筒形燒結體之製造方法及圓筒形成形體之製造方法 审中-公开
圆筒形溅射靶件、圆筒形成形体、圆筒形溅射靶件之制造方法、圆筒形烧结体之制造方法及圆筒形成形体之制造方法

圓筒形濺射靶件、圓筒形成形體、圓筒形濺射靶件之製造方法、圓筒形燒結體之製造方法及圓筒形成形體之製造方法
摘要：
本發明之一目的在於提供變形少且強度高之圓筒形濺射靶件、圓筒形燒結體、圓筒形成形體及此些之製造方法。或者其一目的在於提供均質性高之圓筒形濺射靶件、圓筒形燒結體、圓筒形成形體及此些之製造方法。根據本發明之一實施型態之濺射靶件包含圓筒形燒結體。圓筒形燒結體之相對密度為99.7%以上且為99.9%以下。而且，圓筒形濺射靶件包含彼此相鄰且之間具有指定間隔之多個圓筒形燒結體，相鄰之多個圓筒形燒結體之間之相對密度之差異可為0.1%以下。
摘要（中）：

本发明之一目的在于提供变形少且强度高之圆筒形溅射靶件、圆筒形烧结体、圆筒形成形体及此些之制造方法。或者其一目的在于提供均质性高之圆筒形溅射靶件、圆筒形烧结体、圆筒形成形体及此些之制造方法。根据本发明之一实施型态之溅射靶件包含圆筒形烧结体。圆筒形烧结体之相对密度为99.7%以上且为99.9%以下。而且，圆筒形溅射靶件包含彼此相邻且之间具有指定间隔之多个圆筒形烧结体，相邻之多个圆筒形烧结体之间之相对密度之差异可为0.1%以下。

摘要（英）：

A cylindrical sputtering target includes a plurality of cylindrical sintered compacts adjacent to each other while having a space therebetween. The plurality of cylindrical sintered compacts have a relative density of 99.7% or higher and 99.9% or lower. The plurality of cylindrical sintered compacts adjacent to each other have a difference therebetween in the relative density of 0.1% or smaller.

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