发明专利
- 专利标题: 半導體裝置用接合線
- 专利标题(英): Bonding wire for semiconductor device
- 专利标题(中): 半导体设备用接合线
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申请号: TW104130999申请日: 2015-09-18
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公开(公告)号: TW201707009A公开(公告)日: 2017-02-16
- 发明人: 小田大造 , ODA, DAIZO , 江藤基稀 , ETO, MOTOKI , 齋藤和之 , SAITO, KAZUYUKI , 榛原照男 , HAIBARA, TERUO , 大石良 , OISHI, RYO , 山田隆 , YAMADA, TAKASHI , 宇野智裕 , UNO, TOMOHIRO
- 申请人: 日鐵住金新材料股份有限公司 , NIPPON MICROMETAL CORPORATION , 新日鐵住金高新材料股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN MATERIALS CO., LTD.
- 专利权人: 日鐵住金新材料股份有限公司,NIPPON MICROMETAL CORPORATION,新日鐵住金高新材料股份有限公司,NIPPON STEEL & SUMIKIN MATERIALS CO., LTD.
- 当前专利权人: 日鐵住金新材料股份有限公司,NIPPON MICROMETAL CORPORATION,新日鐵住金高新材料股份有限公司,NIPPON STEEL & SUMIKIN MATERIALS CO., LTD.
- 代理商 陳長文
- 优先权: 2015-159692 20150812
- 主分类号: H01B1/02
- IPC分类号: H01B1/02
摘要:
本發明提供一種接合線,其係於表面具有Pd被覆層之Cu接合線,且改善高溫高濕環境下之球接合部之接合可靠性,適合於車載用元件。 於具有Cu合金芯材、及形成於上述Cu合金芯材之表面之Pd被覆層之半導體裝置用接合線中,接合線包含合計為0.011~1.2質量%之Ga、Ge。藉此,可提昇高溫高濕環境下之球接合部之接合壽命,改善接合可靠性。較佳為Pd被覆層之厚度為0.015~0.150μm。若接合線進而含有分別為0.011~1.2質量%之Ni、Ir、Pt之1種以上,則可提昇175℃以上之高溫環境下之球接合部可靠性。又,若於Pd被覆層之表面進而形成包含Au及Pd之合金表皮層,則會改善楔接合性。
公开/授权文献
- TWI571888B 半導體裝置用接合線 公开/授权日:2017-02-21
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