发明专利
- 专利标题: 半導體裝置
- 专利标题(英): Semiconductor device
- 专利标题(中): 半导体设备
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申请号: TW090100292申请日: 2001-01-05
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公开(公告)号: TW497183B公开(公告)日: 2002-08-01
- 发明人: 小林稔幸 , 栗原保敏 , 上野巧 , 前 信義 , 中 浩一 , 山田富男 , 遠藤恆雄
- 申请人: 日立製作所股份有限公司 , 日立東部半導體股份有限公司
- 申请人地址: 日本 日本
- 专利权人: 日立製作所股份有限公司,日立東部半導體股份有限公司
- 当前专利权人: 日立製作所股份有限公司,日立東部半導體股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本 日本
- 代理商 林志剛
- 优先权: 日本 2000-055938 20000228
- 主分类号: H01L
- IPC分类号: H01L
摘要:
提供在搭載半導體裝置於熱膨脹率不同的外部配線基板時,可防止因熱的變化在陶瓷基板所發生的破裂以及內層配線的斷線之半導體裝置。
一種半導體裝置,其特徵包含:
陶瓷基板,具有第一以及第二主面;
配線圖案,形成於該第一主面,搭載半導體零件;
外部電極,形成於該第二主面,與外部電路連接;
內層配線,形成於該陶瓷基板的內部,經由貫穿孔配線連接該配線圖案與該外部電極;
半導體零件,與該配線圖案連接;以及
樹脂層,被覆該第一主面以及該半導體零件,其中
該內層配線離該陶瓷基板側面0.05mm以上,形成於內側。
一種半導體裝置,其特徵包含:
陶瓷基板,具有第一以及第二主面;
配線圖案,形成於該第一主面,搭載半導體零件;
外部電極,形成於該第二主面,與外部電路連接;
內層配線,形成於該陶瓷基板的內部,經由貫穿孔配線連接該配線圖案與該外部電極;
半導體零件,與該配線圖案連接;以及
樹脂層,被覆該第一主面以及該半導體零件,其中
該內層配線離該陶瓷基板側面0.05mm以上,形成於內側。
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