发明专利
TWI231035B 具有間隙結構之高壓靜電放電保護裝置 HIGH VOLTAGE ESD PROTECTION DEVICE HAVING GAP STRUCTURE
有权
具有间隙结构之高压静电放电保护设备 HIGH VOLTAGE ESD PROTECTION DEVICE HAVING GAP STRUCTURE
- 专利标题: 具有間隙結構之高壓靜電放電保護裝置 HIGH VOLTAGE ESD PROTECTION DEVICE HAVING GAP STRUCTURE
- 专利标题(英): High voltage ESD protection device having gap structure
- 专利标题(中): 具有间隙结构之高压静电放电保护设备 HIGH VOLTAGE ESD PROTECTION DEVICE HAVING GAP STRUCTURE
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申请号: TW093103468申请日: 2004-02-13
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公开(公告)号: TWI231035B公开(公告)日: 2005-04-11
- 发明人: 林耿立 LIN, GEENG LIH , 周業甯 JOU, YEH NING , 柯明道 KER, MING DOU
- 申请人: 世界先進積體電路股份有限公司 VANGUARD INTERNATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 申请人地址: 新竹縣新竹科學工業園區園區三路123號
- 专利权人: 世界先進積體電路股份有限公司 VANGUARD INTERNATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 当前专利权人: 世界先進積體電路股份有限公司 VANGUARD INTERNATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 当前专利权人地址: 新竹縣新竹科學工業園區園區三路123號
- 代理商 洪澄文; 顏錦順
- 主分类号: H01L
- IPC分类号: H01L
摘要:
一種靜電放電(ESD)保護裝置,運用於橫向擴散金氧半場效電晶體(LDMOS)。本發明利用LDMOS既有之結構,額外加上一間隙結構,用以分隔擴散區與場氧化區。當 LDMOS之一寄生的矽控整流器未導通時,使ESD電流分散於其它放電路徑,用以避免ESD電流過於集中於某一放電路徑,進而造成元件之損壞。
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