发明专利
- 专利标题： 鐵鈷系合金濺鍍靶材及其製造方法
- 专利标题（英）： Fe-co-based alloyed sputtering target material, and method for producing the same
- 专利标题（中）： 铁钴系合金溅镀靶材及其制造方法
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申请号： TW102119791申请日： 2013-06-04
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公开(公告)号： TWI542719B公开(公告)日： 2016-07-21
- 发明人: 福岡淳 , FUKUOKA, JUN , 齊藤和也 , SAITO, KAZUYA , 坂卷功一 , SAKAMAKI, KOUICHI , 畠知之 , HATA, TOMOYUKI
- 申请人： 日立金屬股份有限公司 , HITACHI METALS, LTD.
- 专利权人： 日立金屬股份有限公司,HITACHI METALS, LTD.
- 当前专利权人： 日立金屬股份有限公司,HITACHI METALS, LTD.
- 代理商 周良謀; 周良吉
- 优先权： 2012-128657 20120606
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C23C14/14 ; C22C38/12
公开/授权文献
- TW201410900A 鐵鈷系合金濺鍍靶材及其製造方法 公开/授权日：2014-03-16
信息查询
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