- 专利标题： Electroplating bath and method for producing dark chromium layers
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申请号： US14945027申请日： 2015-11-18
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公开(公告)号： US10174432B2公开(公告)日： 2019-01-08
- 发明人: Klaus-Dieter Schulz , Philipp Wachter , Philip Hartmann
- 申请人： Atotech Deutschland GmbH
- 申请人地址： DE Berlin
- 专利权人： Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人： Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人地址： DE Berlin
- 代理机构： Renner, Otto, Boisselle & Sklar, LLP
- 优先权： EP11164641 20110503
- 主分类号： C25D3/04
- IPC分类号： C25D3/04 ; C25D3/06 ; C25D3/10 ; C25D3/08
摘要：
The invention relates to methods and plating baths for electrodepositing a dark chromium layer on a workpiece. The trivalent chromium electroplating baths comprise sulphur compounds and the methods for electrodepositing a dark chromium layer employ these trivalent chromium electroplating baths. The dark chromium deposits and workpieces carrying dark chromium deposits are suited for application for decorative purposes.
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