- 专利标题： Pharmaceutical composition and method for reducing scar formation
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申请号： US15124030申请日： 2014-03-11
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公开(公告)号： US10443059B2公开(公告)日： 2019-10-15
- 发明人: Yi-Wen Wang , Niann-Tzyy Dai
- 申请人： Yi-Wen Wang , Niann-Tzyy Dai
- 申请人地址： TW Taipei
- 专利权人： Niann-Tzyy Dai
- 当前专利权人： Niann-Tzyy Dai
- 当前专利权人地址： TW Taipei
- 国际申请： PCT/CN2014/073228 WO 20140311
- 国际公布： WO2015/135138 WO 20150917
- 主分类号： C12N15/113
- IPC分类号： C12N15/113 ; A61K31/713 ; A61K38/02 ; C12N7/00 ; A61K31/7088 ; A61K31/7105
摘要：
Disclosed herein is a pharmaceutical composition for reducing scar formation in a subject in need thereof. The pharmaceutical composition includes a mixture of three nucleic acids and a pharmaceutically acceptable carrier. A method for reducing scar formation in a subject in need thereof is also disclosed herein.
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