- 专利标题： Method for quantitative analysis of hydrogen in porous silica
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申请号： US16631706申请日： 2019-01-16
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公开(公告)号： US12025554B2公开(公告)日： 2024-07-02
- 发明人: Sumin Na , Jieun Kim , Sunah Shin , Min Hwan Jung
- 申请人： LG Chem, Ltd.
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG Chem, Ltd.
- 当前专利权人： LG Chem, Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 代理机构： Lerner David LLP
- 优先权： KR 20180006827 2018.01.19
- 国际申请： PCT/KR2019/000642 2019.01.16
- 国际公布： WO2019/143124A 2019.07.25
- 进入国家日期： 2020-01-16
- 主分类号： G01N21/3504
- IPC分类号： G01N21/3504 ; C01B33/12 ; G01N1/40 ; G01N1/44 ; G01N33/00
摘要：
A method for quantitative analysis of hydrogen gas generated due to the decomposition of Si—OH (silanol) in porous silica, which is a support of a metallocene catalyst is provided. The analysis enables the measurement of the content of hydrogen present in trace amounts in silica by employing an inert gas fusion-infrared absorption (IGFIA) method under specific pressure and temperature conditions.
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