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发明申请
US20040009441A1 Thermally developable photosensitive material 审中-公开
耐热可感光材料

  • 专利标题： Thermally developable photosensitive material
  • 专利标题（中）： 耐热可感光材料
  • 申请号： US10400494
    申请日： 2003-03-28
  • 公开(公告)号： US20040009441A1
    公开(公告)日： 2004-01-15
  • 发明人: Makoto Ishihara , Yasuhiro Yoshioka
  • 优先权： JP2002-99888 20020402; JP2002-101654 20020403; JP2002-309163 20021024; JP2002-353235 20021205
  • 主分类号： G03C001/34
  • IPC分类号： G03C001/34 ;  G03C001/498
Thermally developable photosensitive material
摘要：
The present invention relates to, a thermally developable photosensitive material containing a non-photosensitive organic silver salt, photosensitive silver halide and a reducing agent on at least one surface of a transparent substrate, wherein a fog density value immediately after thermal developing treatment is 0.20 or less, a value of b0* in the following equation (1) at a fog density portion satisfies null20nullb0*
摘要（中）：

本发明涉及在透明基材的至少一个表面上含有非光敏有机银盐，光敏卤化银和还原剂的热显影感光材料，其中立即热显影处理后的雾密度值为0.20或 在雾浓度部分下面的下式（1）中的b 0 *的值满足-20 <= B0 * <-4，以及从热显影处理之后到后一点的图像色调的变化 的时间已经过去，如在等式（1）中定义的色差值DeltaE是在30℃和60％RH的环境下的9个月的（a）1.2或更小的任何一个，（b）1.2 在40℃，40％RH的环境下，3个月以下，或者在45℃，40％RH的环境下，1周时（c）为0.9以下。 ΔE= [（L1 * -L0 *）2 +（a1 * -a0 *）2 + b1 * -b0 *] 2]等式（1）

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